光刻胶高纯*** :
光刻工艺是一种表面加工技能,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要位置。为在表面完成选择性腐蚀,选用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和“负性”光刻胶,按所用***光源和辐射光源的不同,又可将其分为紫外、远紫外、电子束、 X 射线等光刻胶。
光刻胶是微细图形加工的一种要害***,要求水分低、金属杂质含量低(≤ 10 -6 )
东莞市润庆化工有限公司成立于2004年,按用户需求***生产配制各种开油水、洗网水、洗板水、洗面水.类等系列产品。另公司还配套代理进口、国产化工溶剂如;酮类,醇类,石油类,酯类,苯类,醚类,抗磨液压油,亚么尼亚白胶,其他胶类品公司坚持“和谐发展,持续经营”的理念,恪守“诚信、求精、创新、超越”的企业精神,努力使公司的产品更臻***,客户群日益壮大,我们愿与您携手合作共同创造美好的明天.





纯度远高于优级纯的***叫做高纯***。是在通用***基础上发展起来的,是为了专门的运用目的而用特别办法出产的纯度***l高的***。高纯***操控的是杂质项含量,基准***操控的是主含量,基准***可用规范溶液的制造,但高纯***不能用于规范溶液的制造(单质氧化物在外)。
现在在国际上也无一致的明晰规范,我国除对少量产品拟定了***规范外,大部分高纯***的质量规范还很不一致,在称谓上也有高纯、超纯、特纯、光谱纯、电子纯等不同叫法。一般以 9 来标明产品的纯度。故在规范栏中标以 2 个 9 、 3 个 9 、 4 个 9 以此类推,依据这个准则可将高纯物质分为:
杂质总含量不大于 1.5 × 10 -2 % ,其纯度为 3.5 个 9 ( 99.95 )简写为 3.5N
杂质总含量不大于 1.0 × 10 -2 % ,其纯度为 4 个 9 ( 99.99 )简写为 4.0N
杂质总含量不大于 1.0 × 10 -3 % ,珠海丙二醇四醚,其纯度为 5 个 9 ( 99.999 )简写为 5N
东莞市润庆化工有限公司成立于2004年,按用户需求***生产配制各种开油水、洗网水、洗板水、洗面水.类等系列产品。另公司还配套代理进口、国产化工溶剂如;酮类,醇类,石油类,酯类,苯类,醚类,抗磨液压油,亚么尼亚白胶,丙二醇四醚生产厂家,其他胶类品公司坚持“和谐发展,持续经营”的理念,恪守“诚信、求精、创新、超越”的企业精神,努力使公司的产品更臻***,客户群日益壮大,我们愿与您携手合作共同创造美好的明天.
磨抛光高纯*** :
是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度***。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面抵达微米级加工精度。这类***要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求 2.0 × 10 -4 — 5 × 10 -5 ﹪
液晶高纯*** :
液晶是一类电子化学材料,是指在必定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中心相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人称他为第四态。
液晶品种繁多,用途***广,前景***l大的要属 TN( 等级低 ) 、 STN (中高l级)、 TFT (高l级)型。 TN 、 STN 及TFT 三种型号所组成的单体液晶,首要包含芳香酯类、联l苯类、苯l基环已烷类、铁电类以及含氟液晶品等五种,它们是当今及往后运用及展开的首要目标。这类高纯***要求含量高(≥ 99 ﹪),水分含量低(≤ 10 -6 ),金属杂质含量少(≤ 10 -6 )。
东莞市润庆化工有限公司成立于2004年,按用户需求***生产配制各种开油水、洗网水、洗板水、洗面水.类等系列产品。另公司还配套代理进口、国产化工溶剂如;酮类,醇类,石油类,酯类,苯类,丙二醇四醚厂家,醚类,抗磨液压油,亚么尼亚白胶,其他胶类品公司坚持“和谐发展,持续经营”的理念,丙二醇四醚报价,恪守“诚信、求精、创新、超越”的企业精神,努力使公司的产品更臻***,客户群日益壮大,我们愿与您携手合作共同创造美好的明天.
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