镁合金复合离子去毛刺抛光设备
是一种全新的金属表面处理工艺综合了电浆抛光、电化学抛光及ECD电化学去毛刺原理，且配套了我司自主研发的***节能型电源——仅在工件表面的分子层与电离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此电离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面化学物质。本公司进一步研发出纳米抛光液配方，在抛光液成本上进一步降低，使抛光效果进一步优化。
此方法是将待抛光工件浸入加热的中性盐水溶液中，并对其施加正极性电压，该电解液无公害且廉价，所施加的电压为200-400V，工件可以是不锈钢、工具钢、低碳钢、铜、金和铝等导电材料。在适当的工作条件下，工件表面会出现稳定的蒸气气体层，该气体层会把被处理表面与电解质水溶液隔开，从而导致表面与电解液蒸气之间产生强烈的电离子体化学和电化学反应，使被处理表面产生阴极氧化，同时又使阴极氧化层受到化学侵蚀，在氧化速度与侵蚀速度相等时出现抛光效果，其表现为光洁度上升及反射率提高。当氧化层***薄且又足以抵御侵蚀作用时，其反射率出现***高值。微观不平处的氧化层***薄，因此侵蚀总是发生在凸起部位.此外,被抛光表面被施加足够高的电压后,它和气体层、蒸气、电解液之间会产生很高的电场强度，这种强度也在微观不平处得到强化。这些作用的综合效果，使表面微观凸起部位被削平，达到抛光效果。镁合金复合离子去毛刺抛光设备