印刷晒版的操作步骤及工艺流程
曝光机也是晒版机,只是叫法不同。
晒版的工艺流程为:制备感光版-装版-曝光-显影-检查-修正-烤版-提墨-擦胶
制备感光版:制备过程包括配置感光液、版基表面处理、涂布干燥三步。PS版感光液主要由感光剂(重氮类)、成膜剂(合成树脂类)和有i机溶剂组成。
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晒版机(曝光机)的工作原理及操作步骤
晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。
(1)晒版机对光源的要求:首先应根据PS版的感光特性来选择光源,PS版的感光范围一般在280-450nm,因粘贴胶片的片基和晒版机玻璃对320nm波长以下的光具有较强烈的吸收作用。因此320nm以下波长的光对PS版感光层起不到感光效能,LDI机,感光性能较好的PS版将感光范围定在320-450nm波长范围内;碘jia灯是当今最通用且效率高的光源,盐城直接成像,其波长分布在350-450nm范围内,对多数晒版感光层有效。这种光源有较强的辐射热,因此晒版机应具备良好的散热装置。
DI直接成像曝光机
1、技术优势:
所有MIVA 位图影像系统使用独特的曝光程序,使用高效率半导体光源系统和高解析度的光学模组,此系统将高清晰度的影像转移至感光基材,根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI,LDI直接成像,光学头在板材上方连续移动曝光,高解析度的线性电机和光学尺可实现精准的位置控制。
2、耗电低:
待机时只需消耗350W,曝光时消耗2.5KW,这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗,故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。

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