无锡玻璃板

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，玻璃板，该步骤利用曝i光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。

什么是光刻掩模板

在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确***，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝i光的一种结构，称为光刻掩模版。

　　半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。

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菲林在使用中需注意的事项

菲林密度分高密和低密两种。低密是指胶片冲洗后完全未曝i光处的密度，一般在0.05左右。低密值越低越能使胶片清晰通透，晒版网点质量好。高密指胶片经100%曝i光处冲洗后的实地密度。一般铜版纸印刷所用的晒版菲林要求高密值不低于3.5，通常在3.5～4.5，这样可以保证菲林上的图像信息在晒版时很好地转移到印版上。新闻纸和胶版纸印刷(含地图纸)时，因纸张吸墨性特强和印速高等原因，其高密可适当降低。