美国进口HIPIMS磁控溅射多功能镀膜机的特性可以被用于产生显着的变化，膜的密度和优选的生长方向/方位。 HIPIMS薄膜表现出非常光滑的表面，而不创造过量辐射采暖或宏观粒子掺入。
高功率脉冲磁控溅射多功能镀膜技术适用于非常高的功率密度的脉冲（> 1000Wcm -2，可选择的脉冲持续时间50-200μS和100-500Hz的频率）的磁控管阴极产生异常高的等离子密度为10 19米-3或更大的顺序。 这种脉冲的功率密度可以显着更高水平电离（***多约80％）比通常出现在常规的磁控溅射工艺（约1-2％）释放的靶表面的金属物种。
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