主要特点：
1. 可以适用于Si，Ge，GaAs，InP，GaN, InSb，ZnS, GaN, SiC, 金属等的刻蚀
2. ***大可用于6”wafers
3. 氦气背面冷却
4. 8路气体，O2, SF6，CH4, H2, Cl2, N2, Ar, CHF3
北京特博万德科技有限公司
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公司主营：半导体晶片wafer 纳米粉体 微米粉体
北京特博万德科技（TopVendorScience&TechnologyCo.,Ltd.)有限公司，是一家专业生产和代理、经销现代化电子材料、仪器、设备的公司，我们致力于把国内外先进的科学仪器和设备引入到国内的科学研究及工业应用领域。特博万德同时代理国外诸多著名厂商的分析测试仪器与设备，为国......
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2. ***大可用于6”wafers
3. 氦气背面冷却
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