一、硅外延的定义
硅外延工艺实际上是一种薄层的单晶生长技术,它是在一定的条件下,在硅单晶的衬底片上,沿单晶的结晶方向生长一层具有一定导电类型,电阻率、厚度、晶格结构与体单晶一致的新单晶层。
二、硅外延生长工艺的优点
1、 生长温度比它本身的熔点要低
2、 可以获得纯度高、缺陷少的单晶薄层
3、 由于掺杂工艺灵活,可以获得多种结构的单晶或多层外延便于器件参数结构的调整
北京特博万德科技有限公司长期加工定制各种型号硅外延片,欢迎来电咨询相关信息。
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硅外延工艺实际上是一种薄层的单晶生长技术,它是在一定的条件下,在硅单晶的衬底片上,沿单晶的结晶方向生长一层具有一定导电类型,电阻率、厚度、晶格结构与体单晶一致的新单晶层。
二、硅外延生长工艺的优点
1、 生长温度比它本身的熔点要低
2、 可以获得纯度高、缺陷少的单晶薄层
3、 由于掺杂工艺灵活,可以获得多种结构的单晶或多层外延便于器件参数结构的调整
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