氧化镁单晶基片
氧化镁（MgO）是***的单晶基片而广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光电薄膜和高温超导薄膜等，由于它在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。本中心可提供高纯度的尺寸约2”x2”x 1”的的MgO单晶，采用化学机械抛光制备出高质量原子级表面的基片。
基本性质
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晶体结构 |
立方 |
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晶格常数 |
a=4.216Å |
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生长方法 |
电弧法 |
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熔点 |
2852℃ |
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密度 |
3.58g/cm3 |
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莫氏硬度 |
5.5 Mohs |
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热膨胀系数 |
12.8×10-6/℃ |
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介电常数 |
9.8 |
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光学透过 |
> 90% @ 200 ～400 nm > 98 % 500 ～ 1000 nm |
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晶体解理面 |
<100> |
产品规格
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晶向 |
<100>&plu***n;0.2o <110>&plu***n; 0.5o <111>&plu***n; 0.5o |
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抛光基片 |
外延抛光，单抛或双抛，Ra<10 Å |
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标准厚度 |
毛坯:1.0mm&plu***n;0.1mm 抛光片:0.5mm&plu***n;0.05mm |
标准单晶基片
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毛坯 |
φ1"×0.8mm, 1″×1″×0.8mm，10×10×0.7mm |
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抛光片 |
φ2"×0.5mm,φ1"×0.5mm, 1″×1″×0.5mm 10×10×0.5mm，10×5×0.5mm，5×5×0.5mm |
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