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用于有机或无机氟化物的制造，如氟碳化合物、氟化铝和冰晶石等。也用于不锈钢、非铁金属酸洗，玻璃仪表刻度、玻璃器皿和镜子刻花、刻字，以及玻璃器皿抛光、磨砂灯泡和一般灯泡处理、金属石墨乳除硅提纯、金属铸件除砂、石墨灰分的去除、半导体(锗、硅)的制造。也用作染料合成。及其他有机合成的催化剂。还用于电镀、***、发酵、陶瓷处理以及含氟树脂和阻燃剂的制造等。
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具有弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用氟气（F?）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得***在水中不能完全电离。***能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），
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1、主要用作含氟化合物的原料，也用于氟化铝和冰晶石的制造，半导体表面刻蚀及用作催化剂
2、在电子工业中用作强酸性腐蚀剂，可与氨水等配合使用。
3、用作分析***，也用于高纯氟化物的制备。是氟盐、氟致冷剂、氟塑料、氟橡胶、氟等所必需的氟来源
4、是生产冷冻剂“氟里昂”、含氟树脂、有机氟化物和氟的原料。
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