高真空磁控溅射镀膜生产线
溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场作用下高速轰击阴极靶，使靶材中的原子或分子逸出而淀积到被镀衬底表面，形成所需要的薄膜。用这种方法来进行真空镀膜，薄膜效果也会不同，虽然我们的眼睛无法直接看出，但是它有一定的优势。
***、镀材的范围广泛
溅射膜不像蒸发镀膜由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材，溅射膜是通过***离子高速轰击使镀材溅射出来，几乎所有固体的物质都可以成为镀材。
第二、膜厚有较好的稳定性
因为溅射镀膜溅射镀膜膜层的厚度和靶电流以及放电电流具有非常大的关系，电流越高，溅射效率也就越大，在相同时间内，所镀膜层的厚度也就相对大。因为只要把电流数值控制好，在可允许的范围内想镀多薄多厚都可以。并且只要控制好电流，不管重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，这也就可见它的稳定性。
第三、膜层的结合力强
在溅射过程里，有部分电子会撞击到基材表面，***表面原子，且产生清洁作用，而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级，带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时，有更多的能量可以传递到基材上，产生更多的热能，使被电子***的原子加速运动，与部分镀材原子更早互相溶合到一起，其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜，加强了膜层与基材的结合力。
使用溅射工艺镀膜还可以提高膜层的附着力、致密度、均匀度等特点。适合水晶玻璃制品等、工艺品、塑料制品、电子产品等多个行业，具有良好的发展前景。如有磁控溅射镀膜生产线的需求，欢迎你来电咨询。