当能量高于半导体禁带宽度的光子照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,从价带跃迁到导带,从而产生带正电荷的光致空穴和带负电荷的光生电子。光致空穴的强氧化能力和光生电子的还原能力导致半导体光催化剂引发一系列光催化反应的发生。
半导体光催化氧化的羟基自由基反应机理,得到大多数学者的认同。即当TiO2等半导体粒子与水接触时,半导体表面产生高密度的羟基。由于羟基的氧化电位在半导体的价带位置以上,而且又是表面高密度的物种
等离子体反应区富含极高的物质,如高能电子、离子、自由基和激发态分子等,废气中的污染物质可与这些具有较高能量的物质发生反应,使污染物质在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到讲解污染物的目的。与传统的电晕放电形势产生的低温等离子技术相比较,等离子体技术放电密度是电晕放电的1500倍,这就是传统低温等离子体技术治理工业废气99%以失败而告终的原因。
光催化除臭装置特点:
1、除臭效率高:能去除氨气、硫醇类、挥发性有机物(VOC)、无机物等各种恶臭气体,工业光氧催化光氧催化处理哪家好,脱臭效率可达99%以上。
2、应用广泛:广泛应用于制药、橡胶、石化、污水厂等各种需要除臭场所。
3、适应性强:可适应高、低浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行稳定可靠。
4、运行成本低,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查。
5、本设备能耗低,设备风阻低,可节约排风动力能耗。
光催化净化除臭设备适用范围:
牛皮纸浆、炼油、炼焦、石化、煤气、粪便处理、制药、合成树脂、橡胶、垃圾处理、污水处理、皮革加工、化肥厂等产生的氨、硫醇类、***等恶臭气体。
光催化处理化工废气、甲硫醇气体、烤漆房气体气体尾气处理、尾气处理、家具厂烤漆废气都有较好的效果。
光氧催化废气净化器可视适当情况结合离子除臭设备、离子除臭装置、低温等离子废气处理、除臭剂、废气喷淋塔等配套使用。
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