纳米二氧化硅抛光液研磨液SiO2
13305631332, 13305631650，***:1830343958
我公司系列二氧化硅抛光液产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度二氧化硅抛光液，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料***化***、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。
技术指标：
|
型号 |
外观 |
粒径 |
含量 |
溶剂 |
应用 |
|
VK-SP10W |
半透明液体 |
10nm |
30% |
水 |
精密抛光 |
|
VK-SP30W |
白色乳液 |
30nm |
30% |
水 |
精密抛光 |
|
VK-SP50W |
白色乳液 |
50nm |
30% |
水 |
精密抛光 |
包装：1kg/瓶， 5kg/桶，25kg/桶