中诺新材-高纯钯靶材-高纯钯靶材 钯靶 钯丝 钯片

蒸发作为PVD技术的一种，被广泛应用于半导体行业中的芯片背面金属化工艺，中诺新材（北京）科技有限公司作为***的PVD薄膜材料供应商，可以提供各种规格的全系列高纯金属蒸发材料。这些材料可做成丝状，高纯钯靶材供应 可定制多形态，片状，颗粒状。适用于钨丝篮加热蒸发，钨舟，钼舟蒸发，各种坩埚蒸发等。

同时，这些材料亦广泛应用于精密合金熔炼、高纯化合物制备以及高品质晶体制备等领域。

定制化生产是中诺新材的一大特色。以***的生产设备，规范的加工流程，高纯钯靶材 钯靶 钯丝 钯片，经验丰富的技术人员为后盾，高纯钯靶材，我们可定制化生产加工不同纯度规格尺寸的产品。

高纯箔材片材：厚度0.01-3.00mm

高纯丝材棒材：直径0.01-10mm

坩埚蒸发耗材：钨，钼，高纯钯靶材 现货供销 可定制，钽，石墨，氮化硼等坩埚，各尺寸蒸发线圈。蒸发舟。

单晶衬底基片：不同尺寸，电阻单晶硅片。石英衬底，金属单晶基片

随着材料行业的快速发展，新型合金材料潜力巨大。高温合金，高熵合金，非晶合金等各种特殊要求合金对熔炼原料的要求越来越高。中诺新材可根据客户不同炉体坩埚对投料数量的要求，定制加工各种高纯度，不同规格的金属原料。

分类——常规规格——适用范围

标准颗粒——φ2*5mmφ3*3mmφ6*6mm 10*10*2mm——投料量小，纯度要求高，配比要求准确

破碎小块——1-10mm 2-6mm 3-5mm——投料量小，纯度要求较高，配比要求准

切割大块——1-3cm 3-5cm ＜10cm——投料量大，纯度要求高

批量块锭——25kg/桶 100kg/件——投料量大，纯度要求不高，可***加工处理