厂家*** 科研实验专用 高纯金属钒靶材 V靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料
纯度 99.99%
产品介绍
钒是一种银***的金属。熔点1890&plu***n;10℃，属于高熔点稀有金属之列。它的沸点3380℃，纯钒质坚硬，无磁性，具有延展性，但是若含有少量的杂质，尤其是氮，氧，氢等，能显著降低其可塑性。
产品参数
高纯钒靶材
元素符号：V
颜色：银白色
密度：6.11g/cm3
熔点：1535℃
制作工艺：真空磁悬浮熔炼，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
纯度：≥ 99.9%
形状：平面靶，旋转靶
规格尺寸：可定制
产品应用：平板显示、玻璃及装饰镀膜、磁数据存储、半导体及微电子、太阳能光伏
工业级镀膜，实验或研究级别用 钒靶材 V target，电子，光电，装饰，功能薄膜等均接受订购
适用仪器：各类型号磁控溅射设备等
产品优点：真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少；轧制致密，氧化少，成型可塑；相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高
质量可靠，价格优惠
产品规格 图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途 磁控溅射镀膜材料等
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票
产品包装 真***装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
适用仪器 各类型号磁控溅射设备
厂家优势
厂家***
收货后7日内可协商退换货
靶材种类齐全