中诺新材(多图)-高纯铝靶材生产加工-高纯铝

金、银、铂、钯溅射靶材通过熔炼提纯、浇铸成锭，锻造轧制和精密机加工制造而成。纯度均可达到99.99%，高纯铝，主要应用于电子半导体、太阳能光伏、平面显示、磁学等行业。

钌、铑、铱溅射靶材采用高纯金属粉末为原料，通过粉末冶金铸锭，并精密机加工成靶，产品纯度可达99.95%。主要应用于电子半导体、磁学等行业。

常规靶材有：

高纯金 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯银 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铂 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯钯 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯钌 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铑 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

高纯铱 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm

常规厚度1-6mm

可定制加工的圆靶方靶，可提供靶材绑定服务。

中诺新材研发介绍：

1. 研发种类：各种比例的金属合金、各种比例的陶瓷化合物掺杂、二元混合，有色金属高纯铝合金 氯化物加工，三元混合，四元混合等多元混合材料。

2. 研发材料规格：靶材（圆靶 平面靶 旋转靶 异形靶）、颗粒、圆柱、丝、棒、粉末、锭块，可根据客户要求。

3，研发设备：

1. 真空中、高频熔炼炉

2. 真空悬浮熔炼炉

3. 真空电弧熔炼炉

4. 真空热压炉

5. 真空烧结炉

6. 气氛烧结炉

7. 区熔提纯设备

8. 真空蒸馏设备

9. 进口***机械加工设备

中诺新材分析检测设备——ICP-AES 电感耦合等离子体发射光谱仪

icp-aes分析仪由于采用了计算机技术，仪器的智能化、屏幕显示的图和文及数据的采集、处理等都达到了目前国内***水平，高纯铝丝加工生产，是诸多行业理想的分析仪器。具有分析速度快，测试范围广、基体效应小、分析动态范围小（工作曲线的直线范围可达4-5个数量级）等优点。主要用于微量元素的分析，高纯铝靶材生产加工，可分析的元素为大多数的金属和硅、磷、硫等少量的非金属，共72种。广泛地应用于质量控制的元素分析，超微量元素的检测