蒸发作为PVD技术的一种，被广泛应用于半导体行业中的芯片背面金属化工艺，高纯铁靶材厂家定制，作为***的PVD薄膜材料供应商，中诺新材可以提供各种规格的全系列高纯金属蒸发材料。同时，这些材料亦广泛应用于精密合金熔炼、高纯化合物制备以及高品质晶体制备等领域。
部分产品如下：
材料纯度(%)状态
高纯铝(Al)99.999-99.9999颗粒 粉末 丝状 片状
高纯铜(Cu)99.99-99.9999颗粒 粉末 丝状 片状
高纯钛(Ti)99.5-99.999颗粒 粉末 丝状 片状
高纯镍(Ni)99.9-99.999颗粒 粉末 丝状 片状
高纯铬(Cr)99.5-99.99颗粒 粉末
高纯钴(Co)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状
高纯铁(Fe)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状
高纯镁(Mg)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状
高纯铪(Hf)99.95颗粒 粉末 丝状 片状
高纯锆(Zr)99.5-99.95颗粒 粉末 块状
高纯铟(In)99.995-99.9999，颗粒 粉末 丝状 片状
高纯钽(Ta)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状，片状
高纯铌(Nb)99.95-99.99颗粒 粉末 丝状 片状
高纯铅(Pb)99.99-99.999颗粒 粉末 片状
高纯硒(Se)99.99-99.9999颗粒 粉末
高纯碲(Te)99.99-99.9999颗粒 粉末
高纯锗(Ge)99.9999颗粒 粉末 片状
高纯硅(Si)99.9999颗粒 粉末 片状
高纯锡(Sn)99.99-99.999颗粒 粉末 丝状 片状
高纯锌(Zn)99.99-99.9999颗粒 粉末 片状
稀土化合物材料
中诺新材可以提供多种高纯稀土化合物材料，满足您在不同实验条件下的使用需求。
常用稀土化合物如下：
氧化钪 Sc2O399.99氧化钆 Gd2O399.99
氧化钇 Y2O399.99氧化铽 Tb2O399.95
氧化镧 La2O399.999氧化镝 Dy2O399.99
氧化钬 Ho2O399.99
氧化镨 Pr6O1199.9氧化铒 Er3O399.99
氧化钕 Nd2O399.9氧化铥 Tm2O399.99
氧化钐 ***2O399.99氧化镱 Yb2O399.99
氧化铕 Eu2O399.99氧化镥 Lu2O399.99
供货状态：
粉末：3-5um 300目，部分可以提供纳米粉
靶材：可定制各种尺寸稀土化合物靶材
颗粒： 1-3mm，厂家***高纯铁靶材 铁靶，压片状等
金、银、铂、钯溅射靶材通过熔炼提纯、浇铸成锭，锻造轧制和精密机加工制造而成。纯度均可达到99.99%，主要应用于电子半导体、太阳能光伏、平面显示、磁学等行业。
钌、铑、铱溅射靶材采用高纯金属粉末为原料，通过粉末冶金铸锭，高纯铁，并精密机加工成靶，产品纯度可达99.95%。主要应用于电子半导体、磁学等行业。
常规靶材有：
高纯金 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm
高纯银 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm
高纯铂 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm
高纯钯 靶材 99.99%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm
高纯钌 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm，高纯铁片 铁丝加工定制， φ101.6mm
高纯铑 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm
高纯铱 靶材 99.95%φ50.8mm， φ60mm， φ101.6mm
常规厚度1-6mm
可定制加工的圆靶方靶，可提供靶材绑定服务。
高纯铁片 铁丝加工定制-中诺新材-高纯铁由中诺新材（北京）科技有限公司提供。中诺新材（北京）科技有限公司（）是一家从事“蒸发镀膜材料,高纯有色金属,高纯金属材料,金属材料”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“中诺新材”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使中诺新材在其它中赢得了众的客户的信任，树立了良好的企业形象。 特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！
