9,去胶:湿法去胶,用溶剂、用NONG***。负胶,98%H2SO4 H2O2 胶=CO CO2 H2O,正胶:BIN酮,干法去胶(ash)氧气加热去胶O2 胶=CO CO2 H2O,等离子去胶Oxygenpla***a ashing,高频电场O2---电离O- O , O 活性基与胶反应CO2,CO, H2O, 光刻检验
光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料,可以在光照后发生化学性质的改变,这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型,PMMA(PMGI)以及DNQ(酚醛树脂)等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等***,包括 FUTURREX、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等,中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
11.请教~有没有同时可以满足RIE
process 和Lift-off
process的光阻,谢谢!
A 我们推荐使用Futurrex
NR1-300PY来满足以上工艺的需求。
12.Futurre光刻胶里,有比较容易去除的负光阻吗?
A NR9-系列很容易去除,可以满足去胶需要。
13.我们目前用干膜做窄板,解析度不够,光刻胶 NR9-1500P?,希望找到好的替代光阻?
A NR9-8000因为有很高的AR比例,***适合取代,在凸块的应用上也有很大的好处。
14.传统的Color
filter 制程,每个颜色的烘烤时间要2-3个小时,光刻胶NR7-1000PY?,有没有更快的方法制作Coior
filter?
A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟,同时光阻不需要Reflow, 颜色也不会老化改变,只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻,光刻胶NR9-1000P??,Microlenses就能形成!
15.请问有专门为平坦化提供材料的公司吗?
A 美国Futurrex公司,专门生产应用***的,可以为平坦化的材料提供PC3-6000和P***-1000都是为平坦化用途设计,台湾企业用的比较多。
16.我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE
COATING,那种适合??
A 推荐美国Futurrex,P***-10000。
17.腊是用来固定芯片的,但很难清洗干净,光刻胶,哪里有可以替代的产品介绍下,谢谢?
A 我们公司是使用Futurrex
PC3-6000,可以替代的,而且去除比较容易,你可以试用下。
18.请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗?
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题,如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是适合的选择。
19.谁有用在光波导图案的光刻胶?是否可以形成角度为30度的侧壁?
A 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷,NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。



光刻胶-赛米莱德-光刻胶NR9-1000P??由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司()是一家从事“光刻胶”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,稳健经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“赛米莱德”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上,用户至上”的原则,使赛米莱德在工业制品中赢得了众的客户的信任,树立了良好的企业形象。 特别说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!