空气分子污染物 (AMC) 对于高科技生产过程是关键性因素，特别是微电子行业，有机污染物是生产过程中的消极因素，会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。
无空气分子污染物生产是理想的生产目标，通过污染物源头控制、传播控制，实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现，持久监测AMC浓度，有助于掌握污染物源头、稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。
洁净室环境中的空气分子污染物AMC，内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学***逸散、人员产生、管路***、设备维护修理时散发等，外部来自环境空气中存在的气相污染物，以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。
一旦AMC空气分子污染物超标会引起一系列严重后果，比如晶圆废弃、停产、重新净化洁净室等。
随着IC产品生产成本的增加，空气分子污染物AMC的监测变得越来越重要。
污染物从加工到超净间的扩散，并且成份的增加，分子污染物来自多个源头，比如生产化学药剂、建筑材料、洁净间设备装置、操作人员等。
阿瑞斯-µVOC 系统意味着潜在鉴别空气分子污染物与产生污染问题和减少污染问题之间的关联，完整的全量程全组份实时sub-ppb级测量，提供早期AMC监测和快速确定这些污染问题的原因。