





磁控溅射镀膜机工艺
(1)技术方案 磁控溅射镀光学膜,有以下三种技术路线: (a)陶瓷靶溅射:靶材采用金属化合物靶材,可以直接沉积各种氧化物或者氮化物,有时候为了得到更高的膜层纯度,也需要通入一定量反应气体); (b)反应溅射:靶材采用金属或非金属靶,通入稀有和反应气体的混合气体,进行溅射沉积各种化合物膜层。 (c)离子辅助沉积:先沉积一层很薄的金属或非金属层,然后再引入反应气体离子源,磁控溅射镀膜机多少钱,将膜层进行氧化或者氮化等。 采用以上三种技术方案,在溅射沉积光学膜时,都会存在靶zhong毒现象,磁控溅射镀膜机价格,从而导致膜层沉积速度非常慢,对于上节介绍各种光学膜来说,膜层厚度较厚,膜层总厚度可达数百纳米。这种沉积速度显然增加了镀膜成本,从而限制了磁控溅射镀膜在光学上的应用。
(2)新型反应溅射技术 笔者对现有反应溅射技术方案进行了改进,开发出新的反应溅射技术,解决了镀膜沉积速度问题,同时膜层的纯度达到光学级别要求。表2.1是采用新型反应溅射沉积技术,膜层沉积速度对比情况。
想要了解更多 磁控溅射镀膜机的相关内容,请及时关注创世威纳网站。
磁控溅射镀膜设备的主要用途
以下内容由创世威纳为您提供服务,希望对同行业的朋友有所帮助。
1.各种各样多功能性的塑料薄膜镀一层薄薄的膜。所镀的膜通常可以消化吸收、散射、反射面、折射角、偏光等实际效果。
2.服装装饰设计应用领域,例如各种各样光的反射镀一层薄薄的膜及其透明色镀一层薄薄的膜,可可用在手机壳、电脑鼠标等商品上。
3.电子光学制造行业行业中,其是这种非快热式镀一层薄薄的膜技术性,关键运用在有机化学气候堆积上。
4.在电子光学行业中主要用途极大,例如光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和全透明导电性夹层玻璃等层面获得运用。
5.在机械制造业生产加工中,其表层作用膜、超硬膜这些。其***可以出示物件表层强度进而提升有机化学可靠性能,可以增加物件应用周期时间。


磁控溅射
磁控溅射是物理的气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,磁控溅射镀膜机,而上世纪 70 年***展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
以上内容由创世威纳为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助!
磁控溅射镀膜机报价-磁控溅射镀膜机-北京创世威纳(查看)由北京创世威纳科技有限公司提供。北京创世威纳科技有限公司(.cn)是一家从事“磁控溅射镀膜机,电子束/热阻蒸发机,ICP,RIE,IBE”的公司。自成立以来,我们坚持以“诚信为本,稳健经营”的方针,勇于参与市场的良性竞争,使“创世威纳”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上,用户至上”的原则,使创世威纳在电子、电工产品制造设备中赢得了众的客户的信任,树立了良好的企业形象。 特别说明:本信息的图片和资料仅供参考,欢迎联系我们索取准确的资料,谢谢!