河北宏钜金属材料有限公司可以定制加工不同尺寸，不同纯度的二元，三元，多元化合物溅射靶材
氧化物靶材Al2O3 MgO Fe2O3 Fe3O4 Ga2O3 Nb2O5 NiO TiO2 ZnO ZrO……
氮化物靶材AlN BN Si3N4 TaN TiN……
碳、硫化物靶材BC SiC WC MoS2 WS2 CdS ZnS Bi2S3 ……
二元化合物靶材ITO AZO TZO GZO IGZO Bi2Se3 Bi2Te3……
多元化合物靶材CIGS PZT BST L***O……
以上产品纯度，99.5-99.99%，可定制不同比例掺杂靶材，可提供圆靶，矩形靶。并且可提供靶材焊接绑定服务
高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。
1、粉末冶金法：指钨粉经过成形后，高纯钯块 定制 高纯钯颗粒 ，加热到其熔点下的某个温度，通过物质迁移完成致密化的过程，高纯钯，***终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。
2、熔炼法：指将钨原料加热到其熔点以上形成液相，去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程，根据所采用的手段不同，具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。
3、化学气相沉积：指以钨化合物气体（一般为WF6）为钨源，高纯钯颗粒价格，在一定温度下被H2还原，将生成的钨沉积在特定的基底上，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯（或者制品）的过程。
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