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药剂名称 |
适用范围 |
常规加药量 |
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阻 垢 剂 |
MDC 754 |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
2.5-5.0ppm |
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MDC 702 |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
2.5-5.0pm |
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MDC 200 |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
3.0-5.0pm |
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MDC 220 |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
2.5-5.0pm |
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MSI 300 |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
3.0-5.0pm |
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MSI 410
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·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 ·特别针对原水中硅含量较高的水型 ·浓水侧硅含量上限可达3000ppm，浓水侧LSI值达+2.5还不结垢 |
3.0-6.0pm
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MDC 150（停产） |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
2.5-5.0pm |
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MDC 170 （原MDC150） |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
2.5-5.0pm |
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MDC 151 |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
1.0-3.0ppm （两倍浓缩液） |
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MDC 756 |
·液体阻垢/分散剂，用以控结垢和减少颗粒污染 |
2.5-5.0pm |
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MDC 708 |
·液体阻垢/分散剂，用以控制结垢和减少颗粒污染 |
3.0-5.0ppm |
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硅阻垢剂HypersperseTM MSI410
主要应用：
Hypersperse MSI410是专为防止硅沉积设计得一种***阻垢剂。该产品包含了GE水处理公司的专利聚合物，具有独特的阻止硅沉积性能，是比MSI300有更好性能的产品，而MSI300性能已被许多的膜系统的应用所证明。
MSI410有良好的阻硅垢性能，在选择的条件下，二氧化硅可以达到或者超过300ppm，虽然可能不同水质有别的限制。使用时需控制浓水PH在6.0-6.5来达到***优化性能。应用该产品可以延长膜的运行周期和设备使用寿命，从而降低操作和***费用。
加药及使用要求：
为达到***佳效果，应在静态混合或筒式过滤器之前投加HypersperseTM MSI410。
剂量——典型剂量是3-6mg/L，用于饮用水时，剂量上限是10mg/L。
重要提示——过量或者不足加药量会造成膜的污堵，请咨询GE水处理公司代表选择较优加药点和加药量。
使用——现场使用可以稀释，但稀释后浓度低于10%是不推荐的。稀释时用高质量的水，譬如用RO淡水或者去离子水。当使用稀释产品时，应注意储药箱是否有微生物生长迹象。如发现此现象需要进行消毒来减少其数量。较好的使用方法是不进行稀释来使用。
一般属性：
Hypersperse MSI410的物理特性件材料安全数据表。如有需要，我们将提供复印件。
包装规格和储存：
Hypersperse MSI 410是一种液体物质，有各种专用容器及运输方法。请与您的GE水处理公司代表联系，获取详细资料。
安全注意事项：
如有需要，我们将提供包含该方面信息的材料安全数据表。
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