真空等离子清洗设备工艺处理适用于哪些工作模式

真空等离子清洗设备工艺处理适用于哪些工作模式

真空等离子清洗设备主要的功能为：

A,清洗样品的表面，对样品表面进行表面活化处理，增加样品的亲水性。

B，清洗样品的表面，对样品表面进行表面活化处理，通过添加特殊气体，和处理工艺，可以使样品达到疏水的效果

C,样品处理，进行键合实验

D.双气路可以分别控制

真空等离子清洗设备功能：

对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物（如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。

改变某些材料表面的性能。

使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。

清除金属材料表面的氧化层。

对被清洗物进行消毒、杀菌。

真空等离子清洗设备优点：

具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。

对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。

完全彻底地清除样品表面的有机污染物。

定时处理、快速处理、清洗效率高。

绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。

在常温条件下进行超清洗，对样品非***性处理。

真空等离子清洗设备应用领域：

光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。

清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。

清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。

清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。

高分子材料表面的修饰。

封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。

改善粘接光学元件、光纤、生物***材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显着提高涂覆镀膜质量。

***领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。

***领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。

对***器械的消毒和杀菌。

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